Последовательный волнодисперсионный рентгенофлуоресцентный спектрометр XRF-1800
- Анализ элементов от бериллия (4Be) до урана (92U)
- Уровень измеряемых концентраций от ppm до 100%
- Стабильность и воспроизводимость результатов в течение длительного периода
- Рентгеновская трубка мощностью 4кВт позволяет сократить время измерения, повысить производительность и определять легкие элементы с высокой
чувствительностью
- Анализ монолитных проб, порошков, жидкостей, фильтров
- Верхнее расположение рентгеновской трубки позволяет избежать загрязнения при просыпании или прорыве пробы
- Локальный анализ в любой точке образца диаметром 500 мкм
- Картирование поверхности образца с минимальным шагом 250 мкм
- CCD камера для выбора области локального анализа
- Определение толщины и состава пленок, до 10 слоев
- Поиск соответствия результатов измерения неизвестных проб по базе Пользователя
Области применения:
- Горнодобывающая промышленность и черная металлургия
- Цветная металлургия
- Электроника и магнитные материалы
- Химическая промышленность
- Нефтяная и угольная промышленность
- Керамическая промышленность
- Сельское хозяйство и пищевая промышленность
- Загрязнение окружающей среды
- Сельская и пищевая промышленность
- Бумага и целлюлоза
Дополнительные периферийные устройства:
- Система продувки гелием для анализа жидких проб
- CCD камера для выбора области локального анализа
- Циркуляционная система охлаждения рентгеновской трубки RKE1500A-V-SP: Orion (Япония)
- Автоматическая турель на 40 образцов ASF-40
- Характеристики
|
Основная спецификация |
|||
|
Диапазон определяемых элементов |
От Be до U, базовая комплектация от O до U |
||
|
Рентгеновский генератор |
- Трубка - Rh - анод с тонким торцевым окном, мощность 4 кВт - Параметры - 60 кВ, 150 мА |
||
|
Система охлаждения |
Двойной контур, внутренний замкнутый для охлаждения анода, внешний открытый/замкнутый. Рециркулятор воды (опция) |
||
|
Спектрометр |
|||
|
Облучение образца |
Сверху; образец вращается со скоростью 60 об/мин |
||
|
Система ввода образца |
Маятникового типа, без динамических нагрузок |
||
|
Автосамплер |
8 позиций, 40-позиционный (опция) |
||
|
Держатели образцов |
7 для массивных образцов, один для локального анализа |
||
|
Размер образца |
51 мм в диаметре, высота 38 мм |
||
|
Первичные фильтры |
Автоматическая смена Al / Ti / Ni / Zr /без фильтра |
||
|
Апертуры |
Автоматическая смена 5 типов: 500 мкм, 3, 10, 20, 30 мм |
||
|
Локальный анализ |
0,5 мм диаметр, цифровая камера для контроля области анализа (опция) |
||
|
Первичные щели |
Автоматическая смена 3-х типов: стандартная, с высоким разрешением, с высокой чувствительностью |
||
|
Аттенюатор |
Автоматическое включение/выключение |
||
|
Сменщик кристаллов |
Автоматическая смена 10 кристаллов в двух направлениях |
||
|
Кристаллы-анализаторы |
LiF (200), PET, Ge, TAP стандартные; LiF (220), SX-52, SX-1, SX-14, SX-76, SX-88, SX-98, SX-410 опции |
||
|
Детекторы |
Сцинтилляционный счётчик (SC) для тяжёлых элементов Проточный пропорциональный счётчик (FPC) для лёгких элементов |
||
|
Система подачи газа для FPC |
Электронный контроль плотности; потребление газа 5 см3/мин |
||
|
Контроль степени разрежения |
Стабилизатор вакуума |
||
|
Атмосфера анализа |
Воздух/вакуумирование; предварительное вакуумирование с двумя скоростями; система напуска гелия/азота (опция) |
||
|
Программное обеспечение |
|||
|
Локальный анализ |
Количественный анализ в точке, картирование с шагом 250 мкм, распределение по интенсивностям/концентрациям |
||
|
Количественный анализ |
- Метод фундаментальных параметров (ФП) - Метод фоновых ФП для расчета толщины и состава пленок - Метод калибровочных кривых - Матричная коррекция (5 методов) - Расчет коэффициентов матричной коррекции методом SFP - Измерение интенсивностей пиков и интегральных интенсивностей - Программа сопоставления состава по библиотекам пользователя |
||
|
Качественный анализ |
- Измерение линий высших порядков - Автоматический контроль чувствительности - Сглаживание, коррекция фона, поиск пиков и их автоматическая идентификация, разделение пиков, расчет фона по 16 точкам - Редактирование пиков (добавление/вычитание, маркировка, листинг вероятных элементов для неизвестных пиков), наложение до 8 спектров, изменение шкалы измерений (угол 2Θ, длина волны, энергия, линейный и логарифмический масштабы интенсивности излучения) |
||
|
Обслуживание |
Непрерывный мониторинг системы |